硬质阳极氧化的膜厚标注写法有人卡过吗

直接写硬质阳极氧化，按GB/T 19822执行，膜厚50μm，单独标注就行。粗糙度Ra0.8那是基体的事，不是氧化膜的指标，氧化膜表面粗糙度会比基体大不少，硬质氧化后Ra基本要到1.6甚至3.2，想控制在0.8以下基本不可能，除非后加工。

封孔写不写看客户，常规沸水封孔可以备注一句"沸水封孔"。还有封孔种类得标清楚，沸水封、重铬酸盐封、镍盐封写法都不一样。GB/T 19822是硬质阳极氧化的现行标准，2013那版还在用，没听说有新版替代。

50μm的硬质氧化在6061上做，膜厚是包含了基材粗糙度变化后的，实际测出来会偏厚1-3μm，标注50的话一般能落在50-55之间。如果客户要求严格，标个45-55μm的区间比写死50更稳妥，省得返修。

你们那图纸上氧化膜的粗糙度到底是测基体还是测氧化层？这个有争议。有客户是按氧化后表面算的，那Ra肯定超0.8；要是按处理前的基体Ra0.8来标，那倒还能圆过去。建议先问清楚客户到底想测哪个面。