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刚到车间没多久,师傅让我记硬质氧化的参数,6061的件,膜厚要求50μm,我寻思膜厚不就是越厚越结实嘛,结果看工艺单上写着要测耐压,击穿电压要≥500V。我有点懵,膜厚50μm对应的击穿电压到底是多少算合格?是不是膜越厚耐压就越高?有没有懂哥给说下这俩到底啥关系,膜厚上去了耐压上不去又是啥原因?
硬质氧化的耐压跟膜厚不是线性关系,别拿普通阳极的脑子套。50μm的膜,击穿电压一般能做到800-1200V,看你的封孔工艺和电解液。6061含硅高,膜层致密性比2024差,耐压容易偏低。500V的要求留余量够用,但要是电源波动大、电流密度超1.5A/dm²,膜层疏松击穿电压直接掉到300V以下。测耐压用直流还是交流?交流耐压比直流要求高30%左右。
膜厚上去了耐压上不去,多半是槽液温度高了。硬氧槽温超过5℃,膜层发酥,击穿电压立马拉胯。我们厂做过的数据:-3℃做的膜,耐压能到1000V,8℃做的同样50μm,只有400出头。另外封孔没封好,吸潮后耐压也会降,沸水封孔要保证30分钟以上,不然就是个摆设。
你这工艺单写的500V耐压是工频交流还是直流?得问清楚再测,标准不一样。GB/T 19822里面硬氧的击穿电压要求是按膜厚每微米不低于10V算的,50μm理论上至少500V,但那是最低值,实际合格线一般卡在800V。你那500V的要求偏低,是不是图纸没更新?
膜越厚越耐压这话只对一半。膜层结构才是关键,致密层比例高的膜耐压才硬实,疏松层再厚也是糊弄。测膜厚的时候别光看总厚度,问下你们厂有没有金相检测,能看出致密层和疏松层的比例,这个比单纯比膜厚有意义。