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ABS塑料做微弧氧化孔隙率一般能控到多少?

zhiqiang99
zhiqiang99
2026/04/22 11:22

最近在试ABS基材上做微弧氧化,膜层倒是能长出来,但孔隙率这块拿酒精浸泡法测了一下感觉偏高,大概在12%左右。客户那边要求8%以下,盐雾96小时要过。想问问各位,微弧氧化在塑料基体上孔隙率到底能做到多少算正常水平?有没有什么封孔工艺能压下来又不影响外观?

补充一下:电解液是硅酸钠体系的,电压400V左右,频率500Hz,处理时间15分钟,膜厚大概25μm。是不是参数还得调?

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全部回复 (3)

一切随缘
一切随缘#1

你这个12%不算离谱但确实偏高。ABS上做微弧氧化本身孔隙率就比铝合金难压,基体不导电要靠前期沉积过渡层,孔洞结构天生就多。想要8%以下,单靠参数优化很难,试试后封孔——我们厂用的是硅烷偶联剂KH-560加无水乙醇1:5稀释,常温浸渍30秒,180度烘30分钟,能把孔隙率压到6%左右,盐雾200小时没问题。外观基本不变,不过哑光度会稍微降一点点。

2026/05/02 22:18
2008
2008#2

400V对ABS来说可能偏高了点,击穿太猛孔就大。我之前试350V、800Hz,孔隙率能到9%上下,再低就没突破过。另外你硅酸钠浓度多少?10g/L和15g/L出来的膜结构不一样,浓度低一点孔会细一些。

2026/05/06 08:34
阿涛
阿涛#3

ABS做微弧氧化本身就有点邪门,塑料和金属不一样,热导差、温升高,膜层烧蚀不均匀,孔隙率波动大。你那个25μm厚度配12%孔隙率其实算中规中矩了。要降到8%以下,可能得考虑化学镀镍打底再微弧氧化,界面结合会更好,孔也少一些。直接硬上微弧氧化想压到金属的水平不现实。

2026/06/02 11:30