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采用无限远平场色差校正系统,很好的消除了杂散光,从而大大提高了成 像对比度(衬度)和清晰度。同时提供暗场、偏光、微分干涉(DIC)等观察功能,可以从容应对品质 管理、制造工序检查等观察需求。适用于半导体检测、FPD、封装、电路基铸造、金属材料、精密 模具等
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