86高填平光亮镀镍电镀工艺、光亮镀镍电镀光亮剂供应商长期供应

  

化学除油粉、电解除油粉、化学除油剂、除蜡水、铝合金浸锌剂、高效氰化镀铜光亮剂、无氰镀铜添加剂、酸性镀铜光亮剂、多层镍电镀添加剂（半光亮镍、光亮镍、镍封）、装饰性AB铬添加剂、滚镀镍添加剂、代铬添加剂、黑铬添加剂、铜上脱镍粉、金银电解保护粉、脱水剂、发黑剂、珍珠镍添加剂等

HL-86高填平光亮镀镍工艺

一、高填平光亮镀镍适用范围和特点

1、出光速度快、填平能力优异；

2、镀层整平性好，消耗量少；

3、工艺操作范围宽，补充两种光亮剂，便于工艺调整和维护管理。

二、高填平光亮镀镍配方及工作条件

三、高填平光亮镀镍镀液配制

  1. 加入2/3配槽体积的水，加热至60～65℃，加入所需的硼酸、硫酸镍和氯化镍，搅拌至全部溶解；

  2. 必要时加入1～2ml/l双氧水(30%)，搅拌1小时，提高液温至65～70℃，保温2小时，以除去残余的双氧水。否则会引起低电区漏镀和出现针孔；

  3. 加入化学纯活性炭1～2g/L，搅拌1小时后过滤；

  4. 加水至规定体积，用瓦楞形铁板小电流(0.6～1A/ dm2)电解处理2～3小时，若镍盐中铜、锌杂质过多，则用低电流（0.2～0.4A/dm2）电解处理18～24小时左右，直至镀层不发黑为止；

  5. 加入镀镍添加剂后，小电流(0.8～1A/dm2)电解处理约10分钟，即可试镀。

  注：若是优质镍盐和硼酸，则不必进行双氧水和活性炭处理。